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赵谡玲等肆人赴韩国参加先进显示材料和器件国际会议(ADMD 2018)


2018年7月9号至7月14号,我校理学院赵谡玲、徐征、乔泊和宋丹丹四位老师,受韩国PARK Lee Soon邀请,赴韩国参加先进显示材料和器件国际会议(ADMD 2018)。此次出访得到了国家科技部国际合作司、北京交通大学科技处、国际合作交流处、理学院等机构的大力支持。

先进显示材料和器件国际会议(ADMD 2018)由中日韩三方发起,是显示领域的专业的学术会议,涉及到显示行业的高校、研究机构以及中日韩的显示行业公司。领域主要覆盖1)液晶显示材料与技术:液晶分子的合成、性质和物理机理,AMLCD技术,薄膜晶体管阵列,LCD材料、组分和化合物;2)OLED和柔性显示材料与器件:OLED材料与技术,触摸显示屏材料与技术,电子纸和柔性显示技术;3)LED和光伏材料与器件:LED材料与器件,光伏材料与器件等。

赵谡玲教授作关于OLED瞬态发光和效率衰减主题的邀请报告。从器件物理角度分析了效率衰减的问题和应对策略,分享了近期的科研工作的进展,并且和各位专家学者进行了激烈的讨论。Jang-Joo Kim 教授作关于TADF材料和器件的邀请报告,TADF作为新一代OLED材料具有巨大的应用潜力,但是目前存在稳定性寿命等问题,如何解决这些问题是促使其应用落地的关键。Jianhua Zhang教授作了TFT方面的报告,研究了新型柔性TFT在电子皮肤传感器方面的最新进展。徐征教授作了于钙钛矿光伏器件和稳定性研究的海报展示,并且和与会专家学者进行了讨论。宋丹丹副教授关于有机电致发光和瞬态发光技术的海报展示,并且和与会专家学者进行了交流。乔泊博士关于钙钛矿材料发光特性与稳定性改善的研究的海报展示,并且和与会专家学者进行了充分的讨论和交流。之后,在会议中听取了Byoungho Lee教授关于钙钛矿纳米发光材料的邀请报告,并作小组讨论,听取了Dongwoo Shin教授关于三星显示技术和未来的邀请报告,并作小组交流讨论。

另外参加会议的专家学者主要有:PARK, Lee Soon (UNIST, Korea),Kang, In-Byeong (LG Display, Korea), CHOI, Kwang Soo (JSR Micro, Korea),JANG, Jin (Kyung Hee University, Korea), LEE, Sin Doo (Seoul National University, Korea), IKEDA, Tomiki (Chuo University, Japan), KURIHARA, Seiji (Kumamoto University, Japan), SHIONO, Takeshi (Hiroshima University, Japan),KAWATSUKI, Nobuhiro (University of Hyogo, Japan), SEKI, Takahiro (Naogya University, Japan),TAKATSU, Yoshiharu (DIC Corporation, Japan), ZHANG, Jianhua (上海大学,中国),YANG, Huai (北京大学,中国), LEE, Wei (Chiao Tung University, Taiwan)等。通过此次会议,不仅展示了我们的最新研究成果,同时了解了在光电显示领域最前沿的动态和研究进展,并且和该领域最权威的专家学者进行了充分的交流,为今后的科研交流和合作打下了坚实的基础。同时,在此次会议中通过报告和口头形式介绍了北京交通大学的基本情况,对学校学院进行了宣传,对实验室在该领域的进展进行了介绍,为宣传母校尽了一份力。

通过参加此次国际会议,我们四名成员都受益颇丰,为今后的科研活动的开展奠定了良好的基础。


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